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簡要描述：M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)：聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率。
產(chǎn)品型號： 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-09-23訪 問 量：2643詳細(xì)介紹
M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)主要特點(diǎn)：
- 高分辨率，可達(dá)低于100nm的分辨率；
- 高通量模式，可達(dá)160000針尖輸出制作結(jié)構(gòu)；
- TERA-FAB M系列可制作厘米級材料尺寸；
- 無需掩模，即時(shí)性改變輸出機(jī)構(gòu)，可廣泛適應(yīng)軟質(zhì)和硬質(zhì)材料；
- 軟硬件友好，非專業(yè)人士可在幾小時(shí)培訓(xùn)后，熟練使用。
A）一張4英寸的PPL陣列，有1100萬支筆尖。
B）陣列內(nèi)納米尺度彈性材料*的掃描電子顯微照片及內(nèi)嵌圖像；
C）由PPL技術(shù)打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水（蛋白）；
D）熒光光學(xué)顯微圖的結(jié)果，PPL合成了多路熒光標(biāo)記蛋白的圖案。
如需了解M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)詳情可搜索北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司，或查看儀器信息網(wǎng)/分析測試百科網(wǎng)了解，期待您的垂詢！
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